Plato de vacío de cerámica de alúmina porosa de alta pureza (99,9 %)

Plato de vacío de cerámica de alúmina porosa de alta pureza (99,9 %)

Descripción del Producto

Este Mandril de vacío de cerámica de alta pureza (99,9 %) Este componente de sujeción al vacío de precisión sirve para equipos utilizados en el sondeo de obleas, recubrimiento óptico y procesamiento de sustratos electrónicos. La superficie del mandril presenta un diseño de flujo de aire de seis zonas con ranuras espirales concéntricas, lo que garantiza una presión negativa uniforme para la sujeción estable de sustratos de precisión como obleas de 4/6 pulgadas y vidrio ultrafino. La alúmina de alta pureza ofrece un aislamiento eléctrico excepcional, resistencia química (ácido/álcali) y estabilidad a altas temperaturas; previene la formación de arcos eléctricos de alto voltaje dentro de la cámara y elimina la contaminación inducida por impurezas. La superficie densa y pulida genera una mínima cantidad de partículas, lo que mejora eficazmente el rendimiento del producto. En comparación con los mandriles de carburo de silicio o circonia, este producto ofrece una relación coste-rendimiento superior en aplicaciones de baja a media temperatura, libres de corrosión intensa por plasma. Totalmente personalizable en cuanto a dimensiones, trayectorias de flujo de aire y canales de calentamiento, el producto se somete a pruebas de fugas al vacío y limpieza en sala limpia antes del envío, lo que proporciona un servicio integral de personalización de cerámica de alúmina para fabricantes globales de semiconductores, óptica y electrónica.

Especificaciones del producto

1. Dimensiones: circular (personalizado); diámetro 80–300 mm, espesor 5–30 mm; planitud de la superficie del disco ≤0,002 mm, paralelismo ≤0,001 mm

2. Estructura de ranura del canal de aire

Ventajas principales del producto

1. Pureza ultra alta y limpieza excepcional

Con una pureza de alúmina de ≥99,9 % y niveles de impurezas estrictamente controlados, como Na, Fe y Si (Na ≤2 ppm, Fe ≤3 ppm, Si ≤10 ppm), el material previene eficazmente la contaminación por iones metálicos y los defectos de partículas durante el procesamiento de las obleas, cumpliendo con los rigurosos requisitos de limpieza de los procesos de fabricación avanzados.

2. Estructura microporosa de precisión para una succión uniforme.

Mediante tecnología cerámica porosa, el material presenta un rango de tamaño de microporos de 2 a 100 μm (personalizable), una porosidad del 30 % al 50 % y una red de poros interconectados. La fuerza de succión se distribuye uniformemente, con un diferencial de presión controlado dentro de ±5 kPa en un área de 10 × 10 mm, lo que garantiza que las piezas delgadas (como obleas de silicio y películas delgadas) permanezcan libres de deformaciones y marcas de succión.

3. Precisión geométrica ultra alta

Planitud: ≤3 μm (4–6 pulgadas), ≤5 μm (8 pulgadas), ≤10 μm (12 pulgadas)

Paralelismo: ≤3 μm

Rugosidad superficial: Ra ≤ 0,1 μm (acabado tipo espejo)

El rectificado y pulido de precisión dan como resultado una superficie lisa y refinada, eliminando el riesgo de rayar la pieza de trabajo.

4. Propiedades fisicoquímicas excepcionales

Alta dureza: dureza Vickers ≥1700 HV; excelente resistencia al desgaste y una vida útil muy superior a la de las ventosas metálicas tradicionales.

Alta resistencia a la flexión: ≥379 MPa; alta capacidad de carga.

Resistencia a altas temperaturas: temperatura máxima de funcionamiento de hasta 1700 °C; bajo coeficiente de dilatación térmica (6,5–8,0 × 10⁻⁶/℃) y excelente estabilidad térmica.

Inercia química: resistente a la corrosión por ácidos fuertes, álcalis fuertes y disolventes orgánicos; adecuado para diversos entornos de procesos de limpieza y grabado.

Excelente aislamiento eléctrico: resistividad volumétrica >1×10¹⁴ Ω·cm (a 25 °C); rigidez dieléctrica ≥18 kV/mm

5. Diseño modular para una adaptabilidad flexible.

La superficie de succión cerámica está unida con precisión a la base (disponible en acero inoxidable, aleación de aluminio o cerámica), lo que permite un funcionamiento en modo dual: succión al vacío y liberación por presión positiva. Las geometrías de superficie complejas y las interfaces neumáticas se pueden personalizar para modelos de equipos específicos, lo que garantiza la compatibilidad con los equipos semiconductores más comunes.

Especificaciones técnicas

Aplicaciones del producto

1. Fabricación de semiconductores

Adelgazamiento, corte, limpieza y manipulación de obleas: sujeción por vacío de precisión para obleas de silicio, obleas de carburo de silicio (SiC) y sustratos de zafiro.

CMP (Pulido Químico-Mecánico): actúa como un soporte de vacío para la plataforma de pulido, asegurando que la oblea permanezca plana y estacionaria sin deslizarse durante el proceso.

Fotolitografía y grabado: se utilizan para el posicionamiento y transporte de obleas; resistentes a la corrosión por plasma.

2. Optoelectrónica y pantallas

Procesamiento e inspección de precisión de paneles LCD, sustratos OLED y componentes de vidrio óptico.

3. Mecanizado de precisión

Rectificado, perforación y procesamiento láser de sustratos cerámicos, láminas metálicas delgadas y materiales de película delgada.

Serie de productos

Seguro de calidad

1. Control de calidad integral: gestión de calidad completa a lo largo de toda la cadena, desde el polvo de alta pureza hasta el conformado de precisión, la sinterización a alta temperatura, el mecanizado CNC, el rectificado de precisión, la inspección y la limpieza.
2. Equipo de inspección: máquina de medición por coordenadas (MMC), comprobador de planitud, comprobador de rugosidad superficial y analizador de porosidad.
3. Entrega segura: limpieza y embalaje en una sala limpia de clase 100 para cumplir con los estándares de limpieza de la industria de semiconductores.

Servicios de personalización

Ofrecemos personalización basada en sus dibujos o muestras, proporcionando las siguientes opciones adaptadas a sus necesidades:

1. Diseños personalizados para dimensiones y formas especiales.

2. Tamaños de microporos y niveles de porosidad ajustables

3. Tratamientos de recubrimiento de superficie (por ejemplo, antiestáticos, resistentes al plasma)

4. Materiales base e interfaces de conexión personalizados

Nuestro taller

¿Por qué elegirnos?

1. Investigación y desarrollo personalizados, en lugar de la adaptación de productos estándar.

2. Control exhaustivo de la ciencia de los materiales: Selección de materiales según las necesidades, optimización de la microestructura, consistencia del lote.

3. Capacidad de mecanizado de precisión: La planitud puede alcanzar 0,001 mm, el paralelismo 0,002 mm y la rugosidad Ra 0,1 μm.

Preguntas frecuentes

P1: ¿Qué productos ofrece su empresa?

Nos especializamos en cerámicas de alto rendimiento, como la alúmina y el nitruro de silicio, y ofrecemos aislantes, componentes estructurales, piezas resistentes al desgaste y soluciones personalizadas.

P2: ¿Pueden personalizar piezas no estándar?

Sí. Ofrecemos servicios de procesamiento basados ​​en los planos proporcionados y en el desarrollo técnico colaborativo, brindando un servicio integral desde el diseño hasta la producción en masa.

P3: ¿Qué hay de la precisión y el tiempo de entrega?

Tolerancia estándar ±0,05 mm, grado de precisión ±0,01 mm; muestras de 7 a 15 días, pedidos al por mayor de 20 a 30 días.

P4: ¿Principales áreas de aplicación?

Industrias energética, electrónica, de maquinaria, química y aeroespacial.

P5: ¿Medidas de garantía de calidad?

Inspección de calidad de proceso completo, que proporciona informes de materiales y datos de pruebas de rendimiento, y que respalda la certificación y las pruebas de terceros.

P6: ¿Ofrecen soporte técnico?

Ofrecemos apoyo profesional, como asesoramiento en la selección de materiales, optimización del diseño y análisis de fallos.