Plato de vacío de cerámica de alúmina porosa de alta pureza (99,9 %)
Este Plato de vacío de alúmina al 99,9%. Se fabrica con alúmina (Al₂O₃) de ultra alta pureza (99,9 %), material cerámico de precisión, procesado mediante sinterización a alta temperatura y mecanizado de precisión. Está diseñado específicamente para los sectores de semiconductores, optoelectrónica y fabricación de precisión. Combina alta rigidez, bajo coeficiente de dilatación térmica, excelente planitud y una estructura microporosa uniforme, lo que permite una sujeción por vacío estable, sin daños ni contaminación, de piezas de precisión como obleas, sustratos de silicio y paneles de vidrio.
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