Proveedores y fabricantes de discos de alúmina para obleas semiconductoras personalizadas de tecnología avanzada.
Porta obleas de alúmina Son componentes de ingeniería de precisión fabricados con cerámica de alúmina (Al₂O₃) de alta pureza, diseñados para sujetar y transportar obleas. Se utilizan ampliamente en procesos de fabricación de obleas semiconductoras como la sinterización, la difusión, el recocido, el recubrimiento CVD/ALD, el corte láser y el encapsulado a nivel de oblea. Gracias a su excelente resistencia a altas temperaturas, su elevada estabilidad química y su planitud superior, estos soportes se han convertido en consumibles indispensables en la fabricación de obleas.
Proveedores y fabricantes de discos de alúmina para obleas semiconductoras personalizadas de tecnología avanzada.
Descripción del Producto
Nuestra alta pureza Porta-obleas de cerámica (Al₂O₃ ≥99,5%) Se someten a un proceso de sinterización densa y rectificado de precisión. Presentan una planitud controlada dentro de 0,02–0,05 mm y un acabado superficial similar a un espejo, lo que garantiza un contacto uniforme con la oblea, una sujeción estable por vacío o electrostática y un espesor de película delgada uniforme en toda la oblea. Capaces de soportar temperaturas superiores a 1600 °C, estos soportes ofrecen una excelente resistencia química y al plasma, y generan una mínima cantidad de partículas; resisten la deformación y la contaminación incluso después de repetidos ciclos térmicos en cámaras de grabado, deposición, difusión y limpieza. La gama de productos cubre todos los tamaños de oblea estándar de 2 a 12 pulgadas, con características personalizables, como matrices de orificios de vacío, pines de alineación y perfiles escalonados, disponibles según los planos de diseño específicos.
Características del producto
1. Material de alta pureza
Utiliza cerámica de alúmina de alta pureza (99,5 %-99,8 %), lo que previene eficazmente la contaminación de las obleas por lixiviación de iones metálicos y cumple con los estándares de limpieza de los procesos de semiconductores.
2. Rendimiento excepcional a altas temperaturas
Adecuado para uso prolongado a temperaturas superiores a 1600 °C; presenta un bajo coeficiente de dilatación térmica y una excelente resistencia al choque térmico, lo que garantiza que no se produzcan grietas ni deformaciones durante los ciclos térmicos repetidos.
3. Precisión de mecanizado ultra alta
Logra una planitud y un paralelismo a nivel micrométrico (μm), lo que garantiza un calentamiento uniforme y un posicionamiento preciso de la oblea sobre el soporte, mejorando así la consistencia del proceso.
4. Excelente estabilidad química
Resistente a la corrosión y oxidación por ácidos y álcalis; inerte a la mayoría de los gases de proceso y recubrimientos metálicos, lo que garantiza una larga vida útil.
5. Aislamiento superior y resistencia al desgaste.
Ofrece una alta resistencia de aislamiento y rigidez dieléctrica, combinadas con una alta dureza, resistencia al desgaste y resistencia mecánica, lo que lo hace muy duradero y resistente a la rotura.
6. Excelente calidad de superficie
Rectificado y pulido con precisión para lograr una baja rugosidad superficial (Ra < 0,2 μm); libre de desprendimiento de partículas y porosidad, lo que evita arañazos en la oblea.
Parámetros técnicos clave
| Artículo | Indicadores típicos |
| Material | Cerámica de alúmina de alta pureza (Al₂O₃ ≥ 99,5%) |
| Densidad | ≥ 3,9 g/cm³ |
| Resistencia a la flexión | ≥ 380 MPa |
| Dureza Vickers | ≥ 1800 HV |
| Temperatura máxima de funcionamiento | 1600 °C (1550 °C para uso prolongado) |
| Coeficiente de dilatación térmica (20–1000 °C) | 7–8 × 10⁻⁶ /K |
| Rugosidad superficial | Ra 0,1–0,8 μm (personalizable bajo pedido) |
| Llanura | ≤ 5 μm (según las especificaciones) |
| Precisión dimensional | ±0,02 mm |
| Fuerza dieléctrica | ≥ 15 kV/mm |
Especificaciones y modelo
Escenarios de aplicación típicos
1. Fabricación de semiconductores: manipulación y transporte de obleas dentro de hornos de difusión, oxidación y recocido;
2. Deposición de película delgada: soportes de obleas para procesos CVD, PECVD, ALD y PVD;
3. LED / Semiconductores compuestos: portadores de proceso de alta temperatura para sustratos de zafiro, SiC y obleas epitaxiales de GaN;
4. MEMS y sensores: Procesos de empaquetado, unión y sinterización a nivel de oblea;
5. Energía fotovoltaica y cerámica electrónica: Sinterización de células solares y componentes electrónicos.
Resumen de las ventajas del producto
| Dimensiones de comparación | Ventajas de las bandejas portadoras de alúmina |
| En comparación con los susceptores de cuarzo | Mayor resistencia mecánica y al desgaste; mayor vida útil; resistente a la deformación. |
| En comparación con los susceptores de carburo de silicio | Menor coste, buen rendimiento de procesamiento y dimensiones y especificaciones flexibles. |
| En comparación con las bandejas de transporte metálicas | Libre de contaminación metálica, resistente a altas temperaturas, aislante eléctrico y resistente a productos químicos. |
Sistema de personalización y servicio
Solicitud de cotización
1. ¿Cuál es la pureza de la alúmina? ¿Es del 99,5% o del 99,8%? ¿Puede proporcionar un informe de análisis del material?
La pureza de nuestro producto fotográfico es del 99,5%. Podemos proporcionarle un informe de prueba de materiales; si lo desea, póngase en contacto con nosotros. cindy@w7ceramicspartsltd.com.
2. ¿Qué niveles de planitud y paralelismo se pueden alcanzar? ¿Afectará esto a la uniformidad del calentamiento de la oblea?
Podemos lograr un grado de alta precisión y planitud.≤2–3 μm,paralelismo≤2 μm.
3. ¿Cuál es la tolerancia dimensional?
Es±0,02 mm.
4. ¿Cuál es la vida útil normal?
La vida útil de nuestro producto es de 1 a 3 años.
5. ¿Qué tan estable es el suministro?
Nuestra capacidad de producción mensual es de 1000 unidades.
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