placa de óxido de circonio estabilizado con itrio

Este Placa de boquilla de cerámica Ysz Se fabrica utilizando un material cerámico de precisión de circonia estabilizada con itria (YSZ), con un policristal de circonia tetragonal parcialmente estabilizada con 3% molar de itria (3Y-TZP) como sustrato central. Se produce mediante prensado isostático, sinterización a alta temperatura y mecanizado de precisión. Diseñada para aplicaciones de alta gama, como equipos de grabado de semiconductores, cámaras de procesamiento de plasma y sistemas de distribución de gas de precisión, la placa combina una tenacidad a la fractura ultra alta, una excelente resistencia al desgaste y una resistencia superior al choque térmico con una estructura de distribución de microporos de precisión. Garantiza una distribución de gas y un control de plasma uniformes, estables y duraderos, incluso en condiciones que implican entornos de plasma altamente corrosivos, altas temperaturas y presiones, y ciclos térmicos rápidos.