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placas de alúmina cerámica de alta pureza (99%)

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Placa distribuidora de cerámica de alúmina de alta pureza (99,9%) para PECVD, LPCVD y MOCVD.
El Placa de distribución de cerámica de alúmina al 99,9% Es un componente de precisión fundamental para equipos de grabado de semiconductores, CVD y deposición de películas delgadas ALD. Se utiliza ampliamente en etapas clave del proceso, como la deposición química en fase vapor (CVD), la deposición de capas atómicas (ALD), la deposición física en fase vapor (PVD) y el grabado por plasma. Gracias a su diseño que combina canales de flujo concéntricos en espiral con una estructura multicapa de amortiguación de gas, la placa dispersa uniformemente el plasma y los gases del proceso, garantizando la consistencia del procesamiento en toda la oblea.

ETIQUETAS CALIENTES : placas de alúmina porosa placas distribuidoras de alúmina placas de cerámica de alúmina placas de alúmina cerámica de alta pureza (99%) placas porosas de Al₂O₃
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